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標題Title: 製程及原理概述
作者Authors: 薛珮吟,薛珮吟..等
上傳單位Department: 電子工程系
上傳時間Date: 2013-6-10
上傳者Author: 蔣富成
審核單位Department: 電子工程系
審核老師Teacher: 蔣富成
檔案類型Categories: 課堂作業Class Assignment
關鍵詞Keyword: 半導體工業
摘要Abstract: 半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件(產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密複雜的積體電路(Integrated Circuit,簡稱IC)所組成;IC之製作過程是應用晶片氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入及薄膜沉積等技術,所須製程多達二百至三百個步驟。隨著電子資訊產品朝輕薄短小化的方向發展,半導體製造方法亦朝著高密度及自動化生產的方向前進;而IC製造技術的發展趨勢,大致仍朝向克服晶圓直徑變大,元件線幅縮小,製造步驟增加,製程步驟特殊化以提供更好的產品特性等課題下所造成的良率控制因難方向上前進。

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