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標題Title: 反應濺鍍參數對三氧化鎢薄膜電致色變性質之影響
作者Authors: 謝煜弘
上傳單位Department: 光電工程系
上傳時間Date: 2009-11-25
上傳者Author: 謝煜弘
審核單位Department: 光電工程系
審核老師Teacher: 謝煜弘
檔案類型Categories: 論文Thesis
關鍵詞Keyword: 三氧化鎢、電致色變、濺鍍
摘要Abstract: 本研究使用反應性射頻磁控濺鍍法在ITO玻璃基板上沉積三氧化鎢(WO3)薄膜,藉由改變製程溫度、濺鍍功率、薄膜厚度以及製程壓力等,探討三氧化鎢薄膜之電致色變特性。實驗結果顯示基板溫度升高與濺鍍功率增加皆使得WO3鍍膜緻密度增加而造成著-去色的電致色變特性變差。相反的,製程壓力增加使WO3鍍膜緻密度降低而提高電致色變率。氧氣分壓則對電致色變影響不大。在相同製程條件下電致色變率隨薄膜厚度增加而增加,在400 nm以上因著色後之穿透率已趨近於零,因此,電致色變率達一最大值。

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