南台首頁  - 目的及使用規範

尚未登入 請由此登入
 
 
 
系統於106學年度結束,將不再提供上傳作業










知識分享平台Eshare檢視資訊View
返回前一頁Back
      [檢舉]

標題Title: 介電層製作
作者Authors: 高書賢
上傳單位Department: 電子工程系
上傳時間Date: 2015-12-12
上傳者Author: 高書賢
審核單位Department: 電子工程系
審核老師Teacher: 邱裕中
檔案類型Categories: 課堂作業Class Assignment
關鍵詞Keyword: 液相沉積(LPD) 原子層沉積(ALD)
摘要Abstract: LPD的原理是通過液相中原子或分子的自身作用或者是通過加入某些可以與原料反應的物質,驅動成膜物質沉積在基片上形成薄膜。
原子層化學氣相沉積法(ALCVD)又名原子層沉積(ALD),是一種逐層沉積原子層級厚度的薄膜沉積技術。


檔案名稱
FileName
檔案大小
Size
檔案格式
Format
瀏覽次數
Browses
下載次數
Downloads
2015_12_936f2aca.pptx 118Kb pptx 96 29
文件中檔案:
 

開啟檔案Download
 
 
返回前一頁