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標題Title: 專利迴避報告
作者Authors: 張弘偉
上傳單位Department: 光電工程系
上傳時間Date: 2018-4-9
上傳者Author: 張弘偉
審核單位Department: 光電工程系
審核老師Teacher: 陳瑞堂
檔案類型Categories: 課堂報告In-class Report
關鍵詞Keyword: 透明導電層的製備方法
摘要Abstract: 本發明第一實施例提供透明導電層的製備方法,其包括以下步驟:
S1:提供一奈米碳管膜,該奈米碳管膜包括多個奈米碳管;
S2:提供一導電基底,該導電基底上設置一層絕緣層,將奈米碳管膜設置於所述絕緣層上;
S3:將奈米碳管膜放置在掃描電鏡下,調整掃描電鏡的加速電壓為5~20千伏,駐留時間為6~20微秒,放大倍數為1萬~10萬倍,採用掃描電鏡對所述奈米碳管膜拍攝照片;
S4:獲得奈米碳管膜的照片,照片中奈米碳管分佈在襯底上,比襯底顏色淺的奈米碳管為金屬型奈米碳管,比襯底顏色深的奈米碳管為半導體型奈米碳管;以及
S5:按照和照片相同的比例,在實物上相同的位置對半導體型的奈米碳管進行標識,並除去半導體型的奈米碳管。

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