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標題Title: Enhancement of Photoelectrochemical Properties of ALD TiO2
作者Authors: 鄭錫恩,S. H. Hsiao..等
上傳單位Department: 光電工程系
上傳時間Date: 2010-6-22
上傳者Author: 鄭錫恩
審核單位Department: 光電工程系
審核老師Teacher: 鄭錫恩
檔案類型Categories: 論文Thesis
關鍵詞Keyword: ALD TiO2 Films, Light-Trapping Effect
摘要Abstract: A light-trapping structure with parallel concave cells was developed by using conventional photolithography and electroplating techniques. TiO2 films with a thickness of 50 nm were conformally grown on the surface of the cells by atomic layer deposition ALD.

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2010_6_627ef81d.doc 106Kb doc 262 27
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