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標題Title: 濺鍍鐵熱氣相法生成之奈米碳管熱壓合轉印形成場發射金屬球陣列技術
作者Authors: 鍾慎修,Max Chung..等
上傳單位Department: 電子工程系
上傳時間Date: 2010-6-30
上傳者Author: 鍾慎修
審核單位Department: 電子工程系
審核老師Teacher: 鍾慎修
檔案類型Categories: 論文Thesis
關鍵詞Keyword: 濺鍍,奈米碳管,金屬球陣列
摘要Abstract: 奈米碳管是目前場發射顯示器主要的場發射子材料,但目前的技術不易利用化學氣相沉積方法(chemical vapor deposition, CVD)成長奈米碳管於超過50 英寸之大面積金屬導線上,同時還達到可用的均勻性。本研究提出以濺鍍之奈米鐵粒子做為催化劑,然後於管狀爐中以化學氣相沉積法生成具高度方向性的奈米碳管,再經由BGA 錫球加熱至熔點(185°C)後,透過熱壓合轉印法的方式將奈米碳管附著於金屬基板上,形成奈米碳管球陣列的電子場發射源。

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